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磁控濺射鍍膜儀的基本特點(diǎn)

日期:2025-01-24 05:14
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摘要:
 
 
      磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為現(xiàn)在的的外表處理設(shè)備,其效果是非常大的,不只使用范圍廣泛,在使用上還可以給人們帶來便利。
      磁控濺射鍍膜儀具有以下明顯特點(diǎn):
      1、成膜厚度工藝參數(shù)精準(zhǔn)可控。經(jīng)過調(diào)整爐內(nèi)氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數(shù)等,可方便地對(duì)鍍層沉積速度和厚度進(jìn)行精準(zhǔn)控制,誤差小,一致性好;
      2、膜層靈活多樣,基材適應(yīng)性廣。磁控系統(tǒng)可生成純金屬或配比精準(zhǔn)、穩(wěn)定的合金鍍膜,能滿意薄膜的多樣性以及高精度要求,并且基材為金屬或非金屬均可,靈活性好。
      磁控濺射鍍膜儀相對(duì)濕法鍍膜的優(yōu)勢在于,針對(duì)分子結(jié)構(gòu)復(fù)雜的高分子資料的外表鍍膜,即使有不同外表鍍覆資料要求,也無需替換生產(chǎn)線,只需調(diào)整不同的工藝參數(shù),替換相應(yīng)的靶材,便能快速快捷地實(shí)現(xiàn)針對(duì)不同基材資料的不同鍍層的涂覆;相對(duì)于熱噴涂等工藝,磁控鍍膜系統(tǒng)的鍍層外表質(zhì)量更好、精度高,因此適合精度要求高的電子產(chǎn)品的外表金屬化。筆者選用磁控鍍膜系統(tǒng)方法對(duì)PPS,PEEK樣件外表進(jìn)行金屬化鍍膜,期待解決某些電子裝備產(chǎn)品中PPS,PEEK 高分子輕量化資料應(yīng)用中的外表金屬化需求。
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